作者: irglass
时间: 2015-11-12
浏览:3,472 次
氧氟玻璃陶瓷同时拥有氟化物晶体的较低声子能量和氧化玻璃的良好机械、热学性能的两大优势,是一类极具前景的新型光子材料。在过去十几年中,受到了极大地关注,也取得了很好研究进展。但到目前为止,除了普遍性的晶化机理研究以外,几乎所有的氧氟玻璃陶瓷科研工作都集中设计析出各类氟化物晶体,以适于不同稀土离子掺杂,获得各类新的光学和光子性能。对另一类重要的光学活性离子——过渡金属离子的研究很少。本工作制备出了适于过渡金属离子掺杂的KZnF3纳米晶复合玻璃陶瓷,并选择掺杂Ni2+离子研究其近红外宽带发光。研究发现,在该氧氟玻璃陶瓷中,Ni2+离子取代Zn的位置进入KZnF3,形成六配位NiF6;在405nm激发下,能够获得从1200nm到2400nm的新型超宽带发光。值得注意的是,在此前的发光玻璃或玻璃陶瓷研究中,要获得该波长范围的宽带发光通常需要通过几种活性离子共掺来实现,本工作率先报道了通过单掺实现的方法。相关成果发表在Optics Letters. 2015, 40, (22), 5263-5266.
图 Ni2+离子在不同晶体复合玻璃陶瓷中的发光演变
- 上一篇文章: (图)美国II-VI(贰陆)公司人员来访交流
- 下一篇文章: 我实验室获批为浙江省光电探测材料及器件重点实验室