8月20日，国家市场监督管理总局和国家标准化管理委员发布国家标准公告，批准450项推荐性国家标准和4项国家标准修改单，我室宋宝安副教授，戴世勋研究员和沈祥研究员牵头制定《红外硫系光学薄膜折射率测试方法》（GB/T40293-2021）位列其中，这是我室主持制定的首个国家标准。

     《红外硫系光学薄膜折射率测试方法》标准由TC103（全国光学和光子学标准化技术委员会）归口上报，TC103SC5（全国光学和光子学标准化技术委员会光学材料和元件分会）执行，主管部门为中国兵器工业集团公司。标准起草单位为：宁波大学、湖北新华光信息材料有限公司、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国建筑材料科学研究总院、凤凰光学股份有限公司 、苏州晶鼎鑫光电科技有限公司、道明光学股份有限公司。标准起草人： 宋宝安 、戴世勋、沈祥、徐光以、胡向平、唐雪琼、张龙、祖成奎、何晓虎、周东平、王宏。

       硫系薄膜具有优良的红外透过性能、极高的三阶非线性极化率以及独特的光敏性等特性，已广泛应用于静电复印/平板印刷的感光组件、红外传感、红外热成像、全息存储、红外光波导、相变存储、超快全光开关器件等领域。硫系薄膜的折射率作为一种关键光学常数直接影响其相关器件和系统的性能，需要准确、快速、无损伤的测量硫系薄膜折射率数值。常见的光学薄膜折射率测量方法主要包括：椭圆偏振法、棱镜耦合法、干涉法、数值孔径法、光栅衍射法和透射光谱法等。但这些方法各有优缺点，例如：椭圆偏振法的测量易受建模精度影响，棱镜耦合法只能测试部分材料的折射率等。近年来，硫系薄膜应用日益广泛，但缺乏有效准确对宽红外波段硫系薄膜折射率的检测与表征方法，阻碍了硫系薄膜的应用发展。为适应红外硫系光学薄膜在科研与生产中的需求，促成科研、生产、使用等相关方协调一致，提升国内产品质量，我室基于多年硫系薄膜的研发经验基础上，通过修正Swanepoel方法，利用平移匹配法校准计算获得折射率，并联合多家研究机构和光学元件制造商共同制定红外硫系光学薄膜折射率测试方法的国家标准，对该方法进行统一和规范。该标准实施有助于对我国红外器件产业发展和升级。

       该标准于2017年8月向全国光学和光子学标准化技术委员会光学材料和元件分会提交申报编制国家标准《红外硫系光学薄膜折射率测试方法》的任务，2018年10月，在第十一次推荐性国家标准的立项评估会上获批通过，于2019年7月国家标准化委员会下达了关于国家标准《红外硫系光学薄膜折射率测试方法》立项的通知，由宁波大学负责起草《红外硫系光学薄膜折射率测试方法》的国家标准（计划号：20191902-T-518）。2020年7月通过专家委员答辩。